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中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”，股票代碼：688012.SH)這幾年的業(yè)績持續(xù)向好，連續(xù)盈利4年，今年上半年營收保持增長近五成。用了近20年時間，中微公司成長為刻蝕機龍頭。

告別虧損后，中微公司不斷有新收獲，比如在等離子刻蝕機技術進一步突破，目前中微公司CCP電容性高能等離子體刻蝕設備，已經應用于臺積電5nm生產線，同時其5nm以下的器件試生產取得了進展。

中微公司主要產品等離子刻蝕機主要應用在晶圓制造前道工藝，與光刻機一樣是集成電路晶圓工藝制造環(huán)節(jié)不可缺少的設備。在國內，中微公司在刻蝕機領域難找對手，同時在國際市場上展露頭角。

“板凳要做十年冷，核心技術的突破攻關需要靜下心、沉住氣。”半導體投研專家吳全對經濟觀察網記者表示，中微獲得的突破給國內半導體公司做了一個示范。

這幾年收獲滿滿的背后，中微公司已蟄伏18年。

尹志堯60歲創(chuàng)業(yè)

2004年，60歲的尹志堯，離開全球排名前三的半導體設備公司應用材料，帶領15人團隊回國，創(chuàng)立了中微公司。

中微公司的多位聯合創(chuàng)始人，也多是國際半導體設備產業(yè)的資深技術和專家。在應用材料任職的十多年里，尹志堯歷任等離子體刻蝕設備產品總部首席技術官、總公司副總裁及等離子體刻蝕事業(yè)群總經理、亞洲總部首席技術官。

中微公司董事長兼總經理尹志堯生于1944年，現年78歲。尹志堯本科畢業(yè)于中科大物理系，之后獲加州大學洛杉磯分校物理化學博士學位。1984年至2004年，尹志堯先后在英特爾、泛林半導體、應用材料多家公司任職。到目前尹志堯在半導體領域有近40年的經驗。

相比芯片生產商，半導體設備公司較少被外界關注。

尹志堯公開表示過，半導體設備產業(yè)有明顯的缺點，一個是規(guī)模小，幾百億美元的規(guī)模不到整個芯片產業(yè)的十分之一;另外，半導體設備是B2B模式，大多數人不了解設備公司做什么。

但是沒有光刻機、刻蝕機、薄膜沉積等設備則無法造出芯片。尹志堯此前接受采訪時說，芯片制造細分設備達170多種，而每個具體設備在國際上只有兩三家能夠做，是一個高度壟斷的行業(yè)。這也是被“卡脖子”的主要原因。

國盛證券研報顯示，國際第三方數據機構 Gartner統計，全球刻蝕企業(yè)排名前三的分別是 Lam Research(泛林半導體)、TEL(東京電子)、AMAT(應用材料)，全球市占率合計 91%。國內刻蝕業(yè)務前三大企業(yè)分別為中微公司、北方華創(chuàng)、屹唐半導體。

吳全告訴記者，半導體設備相較于芯片制造、產品應用市場規(guī)模偏小，它是一個倒金字塔效應，從設備到制造、產品，它有一個放大效應。“俗話說沒有金剛鉆不攬瓷器活，只有把相應的設備搞定，才能擴大生產制造的規(guī)模。”

中微公司這樣的半導體設備公司也十分受國家重視，中微公司此前就獲得了大基金一期投資，2020年再獲大基金二期融資近25億元。

中微公司最新財報披露國有法人持股達34.76%，第一大股東和第二大股東均為國有法人。中微公司高管和核心技術人員也持有限售條件股份。

尹志堯曾公開表示過，全員期權激勵是中微吸引人才、留住人才的一大秘訣。中微公司采取全員激勵的方式，連續(xù)多年發(fā)布限制性股票激勵計劃。中微公司2021年年報披露，截至2021年底，中微公司員工持股人數644人(包含離職員工持股)，員工持股人數占公司員工總數的61%，員工持股數量占總股本的16.4%。中微公司披露，2022年上半年報告期內人均年化營業(yè)收入達350萬元。

截至上半年末，董事長兼CEO尹志堯目前持股620萬股，占公司已發(fā)行股本的1%。尹志堯方有陸續(xù)減持，中微公司方面稱是因他個人資金需要。目前中微公司給尹志堯的年薪為669.68萬元。

如何成為刻蝕機龍頭

事實上，中微公司到2018年才實現盈利，在此之前是虧損狀態(tài)。

研發(fā)投入是中微公司投入的大頭。今年上半年中微公司研發(fā)投入占總營收比重的17.56%。此前比例更高一些，去年全年的研發(fā)投入占總營收比重為23%，2020年研發(fā)投入占總收入比重28%。截至2022年上半年中微公司研發(fā)人員數量為496個，相比上年同期有所增加，占公司總人數比重為41%。其中博士82人，碩士150人，本科210人，研發(fā)人員年齡范圍30-40歲居多。

當然這樣的投入也是值得的，2016年到2021年，6年時間里中微公司的營收增長近五倍，已經連續(xù)4年實現盈利。

中微公司的收入主要來自兩大業(yè)務，刻蝕設備和MOCVD 設備。今年上半年，中微公司2022年上半年營收19.72億元，同比增長47.3%，毛利率46%。其中，來自刻蝕設備的總收入占到總營收比重的65.87%。

摩爾精英副總裁賴琳暉告訴經濟觀察網記者，這幾年芯片行業(yè)投入建廠較多，IC設備公司業(yè)績向好，但是后續(xù)的增長速度不會這么高了。

2016年至2021年，中微公司分別收入6.10億元、9.72億元、16.39億元、19.47億元、22.73 億元、31.08億元。2018年之前中微公司年營收復合增長率在60%左右，近三年來增長速度有所放緩。

此前中微公司盈利有部分是政府補貼，不過對政府補貼依賴的情況有改變。2022年上半年，中微公司政府補貼減少2億元，同時持有中芯國際和天岳先進股價在上半年下跌帶來非經常性損益減少。在這樣的情況下，中微公司上半年凈利潤保持在4.68億元，相比去年同期增長17.94%。上半年其扣非凈利潤同比增長6倍。

國內也有多家做刻蝕設備的公司，像北方華創(chuàng)等公司大多以ICP電感性低能等離子體刻蝕設備為主。而中微公司主要的產品CCP電容性高能等離子體刻蝕設備。CCP是介質刻蝕所需要設備，CIP是金屬及硅刻蝕所需設備。

中微公司半年報提及，公司的CCP 電容性高能等離子體刻蝕設備，在一些主要客戶的生產線上已達30%甚至更高的市場占有率。應用于臺積電5nm晶圓生產線的就是中微公司CCP產品。

市面上ICP占據市場份額更大一些，中微公司也從CCP拓展到ICP。三年前中微公司ICP產品正式進入市場，目前年銷售額保持100%的增速。中微公司CCP 刻蝕設備上半年收入8.86億元，同比增長13.98%;ICP 刻蝕設備上半年收入4.13億元，同比增長414.08%。

ICP目前是中微公司增長最快的產品線。

中微公司刻蝕產品線在持續(xù)拓展。中微公司目前正在開發(fā)用于邏輯器件大馬士革刻蝕及用于極高深寬比應用的刻蝕機。財報提及，進展較好，將陸續(xù)進入市場。

未來持續(xù)擴產能

MOCVD設備領域，中微公司搭上了Mini LED新風口。

中微公司MOCVD設備在2020年收入較上年同比下滑34%，去年重獲增長。去年6月，中微公司新發(fā)布了用于高性能 Mini LED 量產的 MOCVD 設備Prismo UniMax。今年上半年中微公司MOCVD 設備收入為2.41億元，占總收入比重的12.22%，較去年同期增長9.90%。報告期MOCVD 設備內毛利率達到35.42%，相比去年同期有所增長。

吳全表示，LED市場越來越是中國公司的天下，代表企業(yè)有京東方、華星等，國內的這些廠家跟國外廠商競爭，主要是跟韓國廠商來競爭，也越來越具有優(yōu)勢，LED國產化這兩年也在加快。中微公司想要拿下LED市場的MOCVD 設備不難理解。

賴琳暉認為，中微在CVD設備上有一定的競爭力，在IC設備自主可控的大背景下，前景可觀。

尹志堯在財報致辭中提及，經過十多年的努力，公司制造氮化鎵基LED的關鍵設備 MOCVD 設備，已成為國內和國際第一，占絕對領先地位。

除了刻蝕設備和MOCVD 設備外，中微公司同時在開發(fā)集成電路前端所需要的低壓化學氣相沉積設備(LPCVD)和生長硅及鍺硅極關鍵的外延設備(EPI)。財報提及，已取得了可喜的進展。

目前中微公司還有三個重大項目在建，在南昌的約14 萬平方米的生產和研發(fā)基地已部分完工，部分生產潔凈室于2022年7月投入試生產;在上海臨港的約18萬平方米的生產和研發(fā)基地建設已大部分封頂，明年年初就可以部分投入使用;上海臨港滴水湖畔約10萬平方米的研發(fā)中心暨總部大樓也在順利建設。

尹志堯財報致辭提到，未來兩年時間，公司會有比現在十五倍大的廠房陸續(xù)建成，為的是確保公司今后10年到15年的發(fā)展。

中微公司目前投入項目的錢，來自上市募集資金和2020年曾發(fā)募集資金。2019年中微公司在科創(chuàng)板上市募集資金15.51億元。2020年中微公司再獲融資發(fā)行，大基金、工銀瑞信基金、GIC Private Limited、國泰君安、中金公司等投資，募集資金82億元。其中國家大基金二期此次認購額近25億元，交易完成后持股3.97%。

尹志堯在財報致辭中提及，由于光刻機的波長限制以及存儲器件從二維到三維的演變，等離子體體刻蝕機已成為集成電路前端設備銷售增長最快的設備，全球超過了相當于1400億人民幣的市場，我國市場規(guī)模約350億人民幣。

“中國是全球第一大半導體需求市場，未來國內還會建很多半導體生產線，需要大量的半導體設備和工具，對國內和全球半導體公司來說，未來有很好的機會。對于國際廠家來說，要供應中國半導體市場，不受地緣政治干擾是前提。”吳全告訴記者。

吳全認為，有國際巨頭的存在，競爭門檻依然比較高，但是國內企業(yè)暫時不應該把泛林半導體、應用材料、東京電子這些企業(yè)當對手，更應該當做榜樣去學習。學習別人的技術積累和發(fā)展模式、路徑。